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2011年9月29日木曜日

緊急分析:日本半導体企業の完全敗北の日

"Facebook内の分析”
次世代半導体プロセス開発は『米国』が聖地となる。
450mmウェハ&プロセス開発を本格スタート。
これで、日本半導体は完全敗北したのである。
電子立国ニッポンは滅び去った文明と同じ。
日本国家戦略(日米半導体摩擦交渉)の大失敗であった。

※関連記事:NY州を次世代半導体技術の中心地に、IBMやIntelなど5社が44億ドル投資へ
http://itpro.nikkeibp.co.jp/article/NEWS/20110928/369543/?ST=sp
※関連記事:国内半導体業界に迫る衝撃の再編シナリオ(日米半導体摩擦の分析)
http://monoist.atmarkit.co.jp/feledev/articles/siliconeswatch/06/siliconeswatch06a.html